TN-EVP180G-2S-LV 本小型蒸發(fā)鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸鍍，設(shè)備配有兩套蒸發(fā)源，可以通過擋板切換，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品的多層鍍膜，在對(duì)樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺(tái)可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜。鍍膜電流*大可達(dá)60A。儀器體積小巧，可有效節(jié)約實(shí)驗(yàn)室空間；操作簡(jiǎn)單，對(duì)不同材料的適應(yīng)性強(qiáng)，十分適合實(shí)驗(yàn)室選購(gòu)

應(yīng)用領(lǐng)域

本型號(hào)的小型蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，被廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED的制備。

產(chǎn)品名稱	桌面型雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)	TN-EVP180G-2S-LV
主要特點(diǎn)	A.樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，鍍膜效果能夠更加均勻； B.采用鎢絲籃為發(fā)熱源，*高溫度可達(dá)到1700℃； C.雙蒸法源，可以實(shí)現(xiàn)多層鍍膜； D.進(jìn)氣口配有針閥，用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量； E.可向真空腔體中通入惰性氣體，對(duì)腔體進(jìn)行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜
技術(shù)參數(shù)	1.樣品臺(tái)：直徑65mm, 轉(zhuǎn)速0-20rpm，至蒸發(fā)源距離 60-100mm 可調(diào) 2.蒸發(fā)系統(tǒng)：2套鎢絲藍(lán)、 max1700℃、B型熱電偶 3.真空腔體：直徑180mm*210mm、高純石英全向透明 4.真空系統(tǒng)：機(jī)械泵（旋片泵）、電阻規(guī)測(cè)量、KF16 接口，進(jìn)氣接口 1/4NPS
產(chǎn)品規(guī)格	供電電壓：AC220V 50Hz,功率：1200W,尺寸：500mm*350mm*400mm