○ 產品介紹

本套CVD系統專為石墨烯生產設計，采用1200℃迷你管式爐，配有高精度質量流量計以及薄膜真空規。相比于常規的皮拉尼電阻規，薄膜規的讀數精準，不受氣體種類影響，十分適合真空鍍膜工藝。同時設備配有可燃氣體檢測裝置，聯動出氣口電磁閥，一旦出現泄漏電磁閥即可自行關閉保證**。
該套設備功能齊全占地面積較小，十分適合實驗室制備CVD

○ 技術參數    

1200℃迷你管式爐參數 

供電電壓	AC220V,50Hz
*大功率	2KW
加熱溫區	單溫區200mm 恒溫區長 100mm
加熱元件	耐熱合金絲
熱電偶	K型
工作溫度	≤1150℃
升溫速率	建議≤10℃
控溫	方式AI-PID 30段工藝曲線，帶有過熱和斷偶保護，精度+-1℃
爐管	高純石英φ50mm O.D x 450mm L
真空系統	機械泵  抽速1.1L/s 極限真空 5Pa

三路質量流量計參數

閥門類型	不銹鋼針閥
氣路數量	三路
承壓范圍	0.05~0.3MPa
量程	Ar 0~500sccm H2 0~200sccm CH4 0~10sccm
流量控制范圍	±1.5%
混氣罐容積	750mL
氣路材料	304不銹鋼
管道接口	6.35mm卡套接頭
供電電源	AC220V 50Hz

○ 免責聲明

本站產品介紹內容（包括產品圖片、產品描述、技術參數等），僅供參考。泰諾公司產品在不斷更新，網站內容可能由于更新不及時，或許導致所述內容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾，泰諾公司會不定期完善和修改網站任何信息，恕不另行通知。