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產品詳情
  • 產品名稱:分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSH325-III-DCDCRF-SS
  • 產品廠商:泰諾
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簡單介紹:
三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
詳情介紹:

三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備

三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶為2英寸,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購;所配電源為兩個500W直流電源,一個300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。

鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制,在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

真空三靶磁控濺射鍍膜儀

技術參數:

產品名稱

分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀

產品型號

TN-MSH325-III-DCDCRF-SS

供電電壓

AC220V50Hz

整機功率

6KW

系統真空

5×10-4Pa

樣品臺

外形尺寸

φ150mm

加熱溫度

850

控溫精度

±1

可調轉速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm

冷卻模式

循環水冷

水流大小

不小于10L/Min

數量

3

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm

腔體材質

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S

膜厚測量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

配直流電源,功率500W*2  射頻電源300W

控制系統

CYKY自研專業級控制系統

設備尺寸

570mm×1040mm×1700mm

設備重量

350kg

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